该产品主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，主要由热交换器、循环泵、压缩机和控制系统构成的一个循环装置，属于生产过程中的温控设备。研发人员在自创的无模型自建树算法的基础上加入自适应控制技术，显著地提高了Chiller的稳定性、控制精度和响应速度。

多通道独⽴控温，可以具备单独的温度范围、冷却加热能⼒、导热介质流量等，采⽤独⽴的两套系统，根据所需的温度范围选择采⽤蒸汽压缩制冷，或者采⽤ETCU⽆压缩机换热系统，系统可通⽤膨胀罐、冷凝器、冷却⽔系统等，可以有效减少设备尺⼨，减少操作步骤。

实现-45℃~90℃温控范围，控温精度±0.05℃。