近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。

Preforma Uniflex™ CW可灵活配置多达五个双反应台反应腔（十个反应台），每个反应腔可以同时加工两片晶圆，在保证较低的生产成本和化学品消耗的同时，实现更高的生产效率。

Preforma Uniflex™ CW配备了完全拥有自主知识产权的优化混气方案及加热台，具有优秀的薄膜均一性、填充能力和工艺调节灵活性，对于弯曲度较大的晶圆，它也具备良好的工艺处理能力。其阶梯覆盖率和填充能力，可以满足先进逻辑器件、DRAM和3D N中接触孔以及金属钨线的填充应用需求。