此前媒体报道称，由于美国的反对，SK海力士可能无法将EUV设备引入其在中国无锡的工厂。据businesskorea 最新报道，SK海力士CEO李锡熙驳斥了这一传言。

据悉，李锡熙在韩国首尔三城洞COEX举行的第14届半导体日仪式后对记者表示，SK海力士从7月开始在韩国利川工厂使用EUV光刻设备批量生产1A(第4代)纳米产品。关于引进EUV设备到中国无锡工厂一事，我们还有足够的时间，所以我们将通过与政府的合作，把设备引进到该工厂。

此前媒体报道指出，SK海力士计划在无锡半导体工厂引入ASML的EUV光刻机，来提高工艺技术的稳定性。但这一计划恐遭到美方反对，理由是“担心中国或将此项技术运用于提高军事能力，从而对美国产生安全威胁”。

当被问及是否允许 SK 海力士向中国工厂引进 EUV设备时，一名白宫高级官员表示拒绝置评，但他重申拜登政府坚持防止中方利用美国及其盟国技术开发尖端半导体这一方针不会改变。