生产企业:无锡华瑛微电子技术有限公司
生产介绍:通过对腔体结构的设计,让化学液扫描晶圆表面,化学液与晶圆表面发生化学和物理反应,把晶圆上的污染物溶解并提取到化学液中,再用检测设备定性定量测量提取到化学液中的污染物,完成对晶圆表面的污染检测。
联系人:周翔宇
电话:18551051218
通过对腔体结构的设计,让化学液扫描晶圆表面,化学液与晶圆表面发生化学和物理反应,把晶圆上的污染物溶解并提取到化学液中,再用检测设备定性定量测量提取到化学液中的污染物,完成对晶圆表面的污染检测。
我公司是“硅片表面金属元素含量的ICPMS测定”国家标准的起草和制定单位。
中华人民共和国国家标准 GB/T 39145-2020
主要用于:
1) 工艺金属污染排查(良率问题追踪)
2) 工艺设备金属污染监测
3) 晶圆层分析(10nm-100um深度范围内杂质元素提取)
1) 提取功能强:提取溶液组成不受限制,晶圆表面材质不受限制;
2)方法多样化:可多次提取、分步提取来快速确定污染来源;
3)更易于与测量仪器互联,一条通道,直接连接;
4)低检出限:过程简单,随机污染源少
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