产品介绍

主要是通过化学反应可选择性的去除Thin film上钼、铝、钴、钛、钨等金属层的湿式蚀刻工艺的关键材料。

产品特点

性能指标于国际先进水平媲美。产品可达到以下标准：选择比≥100：1，浓度精准度±0.1%，金属杂质≤50ppb，颗粒(≥0.1μm)≤100个/ml

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