全自动化学镍钯金设备
1、4/6/8/12兼容,更换recipe,只需更换Cassette。
2、适用于铜基材/铝基材镍金、镍钯金单双面化镀工艺。
3、适用于taiko wafer,产品厚度50-1000μm。
4、镀层厚度:Ni 2.5±0.5um、Pd 0.4±0.1um、Au 0.05±0.02um。
5、均匀性 WIW<10%, WTW<10%, RTR:<10%。
6、Tool uptime:90%。
7、WPH:15000片/月。
8、破片率:1/10000。
9、支持半导体通用SECS/GEM技术协议。
10、通过ISO9001质量管理认证及半导体SEMI S2认证。
11、根据客户要求选配EAP系统和MES系统。
12、根据客户要求选配镍钯金自动分析系统。
13、实时视频监控记录存储。
14、设备全自动化操作,干进干出。
电话:18552039808
传真:0510-85108916
E-mail:kevin_mo@gmc-semi.com
地址:无锡市锡山区锡北镇优谷产业园45、51号