生产企业:拓荆科技股份有限公司
生产介绍:SA-300T系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积(SACVD)设备,拥有自主知识产权。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上,充分实现设备对产能的需求。该设备主要应用在STI、PMD/ILD等,满足Gap-fill的需求。
联系人:胡娜
电话:13940050582
SA-300T系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积(SACVD)设备,拥有自主知识产权。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上,充分实现设备对产能的需求。该设备主要应用在STI、PMD/ILD等,满足Gap-fill的需求。
-高质量的TEOS SiO2和BPSG工艺
-可依客户选择配置1-3路液态源,实现多种先进工艺
-可与8英寸兼容互相切换(SA-200T)
-可搭载1-3个PM
-通过S2安全认证和F47标准检验
电话:024 24188000-8163 / 13940050582
E-mail:hun@sypiotech.cn
地址:沈阳市浑南区水家900号