产品介绍

用于集成电路制造工艺中二氧化硅，淡化硅等介电材料的去除和平坦化。

产品特点

二氧化硅抛光液具有二氧化硅去除速率高，高平坦化效率、低缺陷和低成本的优点。

氮化硅抛光液具有氮化硅去除速率高，选择比可调，低缺陷率等优点。

安集微电子科技（上海）股份有限公司

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