产品介绍

干法蚀刻清洗液SYS9050能够有效去除晶圆铜制程工艺干法刻蚀工艺后光刻胶残留物和刻蚀过程中侧壁产生的Polymer及残留物。

产品特点

• 对Polymer及残留物清洗能力强；

• 与各种金属介质薄膜和非金属介质薄膜相容性高、腐蚀性小；

• 使用寿命长。

上海新阳半导体材料股份有限公司

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