产品介绍

四甲基硅烷是用于沉积硅碳氮（SiCN）和类碳化硅膜的前驱体，主要用于90nm以下工艺技术中沉积低介电常数铜阻挡层或刻蚀停止层。

产品特点

在合成制备四甲基硅烷方面都面临反应条件苛刻、系统收率低、成本偏高等问题，同时容易引入杂质和存在副反应，增加进一步精制的难度。而现有的提纯四甲基硅烷的装置主要依靠多级精馏塔和吸附器进行除杂，多级精馏塔的引入使得工艺流程长，原料中存在的氯硅烷与四甲基硅烷沸点接近，精馏去除效率低。

产品指标：组分纯度：≥99.99%（基于GC）； 杂质纯度：≥7N（基于ICP-MS），水≤5μg/g；Cl＜2ppm，颗粒度（≥0.2μm）≤10 pcs/ml。

洛阳中硅高科技有限公司

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