产品介绍

电子级二氯二氢硅主要用于先进集成电路芯片制程中应变硅外延生长以及氧化硅、氮化硅以及金属硅化物等薄膜沉积生产工艺，具有沉积速度快，沉积薄膜均匀、温度较低等特点。电子级二氯二氢硅除了硅外延片厂商会用到外，所有IC晶圆制造厂几乎均会用到二氯二氢硅。

产品特点

主要作为选择性外延生长锗硅层的硅源气体使用，对组分和杂质均有严苛要求。主流制备工艺方法会产生较多副产物，包括硅烷、一氯硅烷等，后端提纯分离难度较大。

产品指标：纯度≥99.99%，电阻率≥500Ω·cm，O2+Ar≤1ppm，N2≤1ppm，CO≤1ppm，CO2≤1ppm，B≤0.05ppbppt，P≤0.2ppb；As≤0.05ppb，Fe≤1.0ppb，Ni≤0.5ppb。

洛阳中硅高科技有限公司

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